トーニック株式会社

半導体プロセス 受託サービス

半導体プロセス 受託サービス

成膜フォトプロセスエッチングプロセスダイシングまでの試作、実験をスピーディーにサポートします!

・ 長年の実績と豊富な経験を生かし、御社の研究開発をバックアップします!

・ バイオチップ,MEMSの受託製造・加工についてもご相談ください。

イエロールーム内装置

 成膜加工(スパッタリング・蒸着・イオンプレーティング)

・ 金属/合金/酸化物/窒化物/炭化物など、120種類以上の材料を保有しております。

・ 少量のご発注にも対応可能です。

・ 熱酸化膜付けの受託加工も承ります。

■ PE/LP/TH-CVD(Max Φ8")
■ 対応可能膜種:TEOS・SiO・SiN・BPSG・PSG・p-Si・a-Si・W

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 パターニング加工(レジスト塗布〜露光・現像〜ウェット&ドライエッチング)

・ ステッパー(i線/g線)・マスクアライナーを使用!

・ 仕様に合った手法を用いてタイムリーにサポート致します。

・ 露光・現像のみ/エッチングのみなど、部分ごとのサポートも可能です。

・ 小径基板や角型基板の投入が可能です。(Max Φ8")

・ 少量のご発注にも対応可能です。

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評価用 微細パターンウェハ販売

・ KrF・ArFを使用した各膜種、評価用微細パターンウェハ(L/S・C/H)を販売!

・ カスタムパターンの製作も可能ですのでご相談ください。

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膜 種 膜構造 備 考
Th-OX 熱酸化膜単層
TEOS-OX PE-TEOS単膜
HDP-OX HDP酸化膜単膜 アニール処理有
Cu メッキCu/シードCu/バリアメタル/Th-OX アニール処理有
W CVD-W/TiN/PE-SIO
TiN TiN/PE-SiO
Ta Ta/ThOX
TaN TaN/ThOX
Poly-Si LP-Poly-Si/ThOX
PE-SiN プラズマSiN膜単層
LP-SiN LP-SiN単層
PE-SiO プラズマSiO膜単層
PE-SiON プラズマSiON単層
Low-K 各種低誘電体膜
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